光刻机行业:国之重器,路虽远行则将至——海外硬科技龙头复盘研究系列之九

光判机被誉为半要体工业主见上的明珠,光刻是半导体芯片生产中最复杂、关健一环。光刻机是芯片制造流程中的核心设备, 其光刻的工艺本平直接决定芯片的制程、性能,被誉为半导体工业皇冠上的明珠。光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键步 骤,耗时长、成本高。光刻机原理类似相机照相,发出光通过具有圆形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后发生 性质变化,使圆形复印到薄片上,使薄片具电子线路圆作周。其中分辩率直接决定制程,是最重要的指标:套刻精度影响良 率:生产效率影响产能及经济性。
光刻机可分为直写光刻机与接膜光刻机,市场主流有Hlines KrF、ArF、ArFi、EUV五大类。掩膜光刻机曲光源发出光束
经掩膜板在感光材料上成像,叉可分为接近、要触式及投影式,投影式为主流,还可分为UV、DUV,EUV.直写武光刻机
用计算机控制光束投影至涂感光材料的基材上,无掩膜进行哪光,叉可分为光学直写、带电粒子直写。直写光刻机在半导体
应用领域窄,体量小,是掩膜光刻机的朴充。市场主流光刻机有iHline,KrF、ArF、ArFi,EUV五大类。
光刻机产业健上游所需掌件设备众多复杂,下游半导体市场幅动行业发展。零件、组件和设备为上游供应。下游市场主要为 半导体市场,全球半导体市场规模稳步扩张,使光刻机需求稳步增长。受益于品国需求增长、服务器云计算与5G基础建设 发展,全球光刻机市场规模平稳增长,2023年全球光刻机市场规模增至271.3亿美元,预计2024年达295.7化美元。2022 年全球光刻机销售结构以中、低端KGF、Hine为主,占比约71.5%,高端ArFi,AIF和超高瑞EUV占比较小,分别为154%
5.8%和7.3%.
从全球光刻机竞争格局看,光刻机市场由国外企业主导。ASML占跑对霸主地住,2022年市场份额占此82.1%,Canon占
比10.2%,Nikon占此7.7%,上海微电子为国内唯一巨头。超高端光刻机EUV领域ASML独占整头,高端光刻机ArFi和 ArF领域也主要曲ASML占领:Canon主要集中在Hine领域:Nikon除EUV外均有涉及。2022年光刻机国产化率仅2.5% 上海微电子为国内唯一巨头。
复盘海外是头ASML成长之路;四十破砺前行,成就全球光刻机起头。1980年代ASML和出茅庐,与知名透镜制造商卡 尔蔡司建立金作。1990年代,ASML推出PAS 5500,使ASML名声大噪。2000年代,双工作台、浸没式光刻技术助力ASML 成为行业绝对的龙头。2010年代,ASML第一台EUV光刻机问世,收购业内一众领先厂商。2020年代,ASML将EUV光 刻机推进至HighNA时代
ASML光刻机产品全面半富,泛入式行业领光,EUV为其独有。ASML拥有EUV、DUV两大光刻系统,DUV包括浸入式形 统,干式系统,EUV包括EXE。NXE。ASML浸入式在生产力、成像和覆盖性能方面处行业领先,适用最先进逻解和内存 芯片的大批量生产。EUV技术为其独有。得益于NDXE和DUV浸入式系统量价齐升,2023年ASML实现营业收入275.59
亿欧元,净利润78.39亿欧元。预测将于2025年实现的300亿欧元至400亿欧元的年销售额,毛利率的为54%至56% ASML通过不断研发投入、挂术创新,通过产业健上下游收购不断拓党护城河。2023年ASML研发投入39.81亿欧元,同
此增长22.35%,以支特其牢牢占据高端市场:同时其注重产业链协同效应,在上游进行有针对性的收购或股权投责,与下 游客户建立密切金作关承:开与客户、供应商、研究金作伙伴、同行共建创新生态形统:使其龙头地住不断巩圆。
海外龙头企业发展历租对于圆内光刻机企业发展的启示:1)持续高本平研发投入,整持创新。打破国内外光刻机巨头的技 术壁坐,需要持续高水平投入研发资金,竖持产品技术创新。2)重视产业键协同,深度螂定上下游,构建利益共同体。可 以采取开购或命作的方法绑定上下游企业,构建企业生态圈,发挥产业键协同效应。
敢策大力支村,国产光刻机行业初尊降芒。1)上海微电子:国产光刻机唯一巨头,SSX600系列光刻机较具代表性。2) 炬光科技:深耕激光元器件,激光雷达、近半导体。医疗健康多产业布局。3)茂来光学:领军国内工业级精密光学,实 现九项核心技术产业化,公司光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术已实现产业化。4)福品科技:全球光学品体龙头,“品 体+光学元件+激光器件”一站式服务。4)波长光电:国内激光光学元件的主要供应商,日前,公司已具备提供光刻机配套 的大孔径光学镜头的能力,公司成功开发的光刻机平行光源系洗可周于国产光刻机领域配套。
投责策略:光刻机是国之重器,也是日前半导体工艺中被“卡脖子”最为严重的半导体设备之一。基于对国内半导体行业政 策以及对于国内半导体设备国产化趋势的分析,我们认为,国产光刻机行业有望通过技术玻竖和上下游协同的形式实现弯道 超车,关注上海微电子等相关公司的客户突破与产品突破,受益标的:福品科技、茂来光学、炬光科技、波长光电等。

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